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《睿米®标准漏孔:核心技术解析与典型应用》 以下是根据文档内容整理的 Word 文档框架及核心内容,您可根据需求进一步编辑格式或补充细节: 睿米 ® 标准漏孔核心技术手册 ——RMI-MTC™微通道工艺与创新设计解析 目录 1.微通道毛细管工艺(RMI-MTC™) 2.零体积阀门设计(RMI-MZV™/PSOZV™) 3.RMI-Metal™金属密封工艺 4.漏孔元器件一体化设计 5.自研 RMI-Cal™流导模拟算法 1. RMI-MTC™微通道毛细管工艺 1.1 技术原理 采用精密加工技术

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《睿米®标准漏孔:核心技术解析与典型应用》 以下是根据文档内容整理的 Word 文档框架及核心内容,您可根据需求进一步编辑格式或补充细节: 睿米 ® 标准漏孔核心技术手册 ——RMI-MTC™微通道工艺与创新设计解析 目录 1.微通道毛细管工艺(RMI-MTC™) 2.零体积阀门设计(RMI-MZV™/PSOZV™) 3.RMI-Metal™金属密封工艺 4.漏孔元器件一体化设计 5.自研 RMI-Cal™流导模拟算法 1. RMI-MTC™微通道毛细管工艺 1.1 技术原理 采用精密加工技术

发布日期:2025-06-15 22:38 来源:http://www.realmeter.cn 点击:

《睿米®标准漏孔:核心技术解析与典型应用》

*以下是根据文档内容整理的 Word 文档框架及核心内容,您可根据需求进一步编辑格式或补充细节:

睿米 ® 标准漏孔核心技术手册

——RMI-MTC™微通道工艺与创新设计解析

目录

1. 微通道毛细管工艺(RMI-MTC™

2. 零体积阀门设计(RMI-MZV™/PSOZV™

3. RMI-Metal™金属密封工艺

4. 漏孔元器件一体化设计

5. 自研 RMI-Cal™流导模拟算法

1. RMI-MTC™微通道毛细管工艺

1.1 技术原理

采用精密加工技术制成50nm~200μm 孔径的理想圆管结构,孔径均匀无方向性,气体流动严格遵循流导规律,从根源上避免传统工艺的漏率波动问题

1.2 核心优势

• 全场景覆盖:支持0.1Pa~40MPa 全压力范围10⁰ml/sec~10⁻¹³Pam³/sec 全漏率区间,适配 HeH₂、冷媒、混合气体等所有气体类型 。

• 超强耐受性:抗 40MPa 高压冲击、1.2 米跌落 5 次抗震测试通过,工作温度 - 20℃~65℃,温度系数仅 0.1%/℃

• 精准定制:可按客户指定压力与漏率定制,加工公差 ±10% 或更高,3~5 天快速交付 。

1.3 与传统工艺对比

 

指标

睿米微通道工艺

传统玻璃 / 金属工艺

结构

理想圆管,无方向性

玻璃缝隙 / 金属压扁,孔径不均

压力耐受

40MPa

<1MPa(玻璃)/<2MPa(金属)

漏率稳定性

年衰减 < 0.1%

漏率波动大,衰减快

2. 零体积阀门设计(RMI-MZV™/PSOZV™

2.1 技术原理

阀门呆体积 < 0.1μL(典型值 0.098μL),结合金属密封技术,实现阀门开关时气体损失≈0,对真空系统零冲击

2.2 核心优势

• 低损耗:传统阀门每次开关损失 10cc 气体,零体积阀门仅损失 0.01cc,节省昂贵同位素气体(如 XeKr) 。

• 抗干扰:常闭气动设计(PSOZV™)避免误操作,适合自动化场景,漏率自然衰减 < 0.1%/ 年 。

• 高适配性:适用于 RGA 残余气体分析、半导体超高真空系统,不冲击系统压力 。

3. RMI-Metal™金属密封工艺

3.1 技术原理

采用金属熔融密封,密封性能达 **<1×10⁻¹⁵atm.cc/sec**,较传统工艺(1×10⁻⁹atm.cc/sec)提升 5~6 个数量级 。

3.2 核心优势

• 超高精度:可制作最小漏率 10⁻¹⁵atm.cc/sec 的通道型漏孔,满足半导体芯片制造的超高真空需求 。

• 抗吸附性:解决气体在密封材料中的吸附问题,保证气体纯度,适用于质谱分析等精密场景

4. 漏孔元器件一体化设计

4.1 技术原理

采用 KF / 阀门一体集成、无源漏孔一体成型设计,消除传统工艺的螺纹拼接或胶水密封 。

4.2 核心优势

• 零泄漏:杜绝组装环节的泄漏风险,外漏率 < 1×10⁻¹¹atm.cc/sec,适用于航天等高可靠性场景 。

• 长寿命:无易损密封件,耐振动、抗腐蚀,使用寿命较传统产品延长 3~5 年 。

5. 自研 RMI-Cal™流导模拟算法

5.1 技术原理

通过数值模拟计算气体动力粘度、流导特性,优化微通道孔径与长度,实现漏率精准预测

5.2 核心优势

• 快速定制3~5 天完成定制(传统工艺需数周),支持混气比例、压力、漏率的多参数同步优化 。

• 高精度控制:漏率定制公差可达 ±2%,满足科研级校准需求 。

附录:典型应用场景

• 半导体:光刻机真空腔漏率校准(10⁻¹⁰Pam³/sec 级)

• 新能源:动力电池包背压氦检(50μL 体积模拟)

• 航空航天:高压燃料管道泄漏检测(40MPa 耐压)

:文档数据均源自《2025 睿米 ® 标准漏孔 产品手册 & 配置指导》,如需完整技术参数或案例,可联系睿米官方获取详细资料。

您可将上述内容复制至 Word 文档,进一步调整字体、段落格式或插入表格 / 图片(如漏率对比表、产品示意图等)。

(注:文档部分内容可能由 AI 生成)


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